【簡(jiǎn)介：】專(zhuān)利是有地域性的，如果某國(guó)外技術(shù)沒(méi)有在中國(guó)申請(qǐng)專(zhuān)利，那就無(wú)需取得許可，可以直接使用。
需要注意的是：
1、專(zhuān)利從申請(qǐng)到公布有一段時(shí)間周期，該技術(shù)有可能已經(jīng)在國(guó)內(nèi)提交了申請(qǐng)，但

專(zhuān)利是有地域性的，如果某國(guó)外技術(shù)沒(méi)有在中國(guó)申請(qǐng)專(zhuān)利，那就無(wú)需取得許可，可以直接使用。
需要注意的是：
1、專(zhuān)利從申請(qǐng)到公布有一段時(shí)間周期，該技術(shù)有可能已經(jīng)在國(guó)內(nèi)提交了申請(qǐng)，但是還未公開(kāi)。
2、如果很確定沒(méi)在國(guó)內(nèi)申請(qǐng)，你可以在國(guó)內(nèi)正常生產(chǎn)、銷(xiāo)售，但是出口的話(huà)就必須了解該技術(shù)是否在你打算出口產(chǎn)品的國(guó)家申請(qǐng)了專(zhuān)利，否則就侵權(quán)了。

我國(guó)有沒(méi)有無(wú)人直升機(jī)

　2012.12.27日，由山東濰坊天翔航空工業(yè)有限公司自主研發(fā)的V750無(wú)人直升機(jī)首次在濰坊市北部沿海區(qū)域進(jìn)行飛行，V750無(wú)人直升機(jī)起飛重量757公斤，任務(wù)載荷大于80公斤，最大平飛速度為每小時(shí)161公里，最大航程為500公里，續(xù)航時(shí)間大于4小時(shí)，是中國(guó)目前最大的無(wú)人直升機(jī)。

中國(guó)有沒(méi)有攻擊無(wú)人機(jī)，性能如何？

1）“暗箭”攻擊型無(wú)人機(jī) 2）“暗箭”目前才處于定型階段不可能試飛。 3）“暗箭”應(yīng)用范圍：按照“暗箭”模型所宣稱(chēng)的戰(zhàn)術(shù)要求和大致比例來(lái)看，基本可以確定該機(jī)是正常起飛重量在10噸以上的中型無(wú)人機(jī)，高空最大飛行速度應(yīng)該能夠達(dá)到2馬赫并具備超音速巡航能力，低空最大飛行速度和綜合機(jī)動(dòng)性也可以超過(guò)同類(lèi)技術(shù)水平的有人駕駛常規(guī)戰(zhàn)斗機(jī)。“暗箭”在載荷和航程上應(yīng)與F一35這種第四代戰(zhàn)斗機(jī)相差不多，采用標(biāo)準(zhǔn)飛行剖面時(shí)的作戰(zhàn)半徑能夠達(dá)到800～1000公里，完全有能力在機(jī)體內(nèi)部彈艙掛載約1000-1500公斤載荷，可以根據(jù)作戰(zhàn)任務(wù)掛載4枚250公斤制導(dǎo)炸彈或者同樣數(shù)量的SD一10空空導(dǎo)彈。 4）“暗箭”采用紅外／激光雷達(dá)裝置，可以對(duì)小型運(yùn)動(dòng)目標(biāo)進(jìn)行自主搜索、定位和分析，能夠依靠全球定位裝置和激光／紅外制導(dǎo)的制導(dǎo)彈藥進(jìn)行精確打擊，依靠其低信號(hào)特征優(yōu)勢(shì)還能夠攜帶反輻射武器對(duì)敵方縱深進(jìn)行攻勢(shì)防空壓制。

我國(guó)專(zhuān)利分為發(fā)明，實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)三種這三種怎么區(qū)分

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發(fā)明保護(hù)產(chǎn)品和方法的技術(shù)方案
實(shí)用新型保護(hù)有具體結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的技術(shù)方案（化學(xué)品，粉末等無(wú)定型產(chǎn)品不可以申請(qǐng)）
外觀設(shè)計(jì)保護(hù)的是產(chǎn)品所承載的設(shè)計(jì)方案.例如:娃哈哈的瓶子以及瓶貼都可以申請(qǐng)外觀專(zhuān)利.最有名的金嗓子喉寶的盒子子就申請(qǐng)了外觀專(zhuān)利.您可以看看.
從專(zhuān)利號(hào)/申請(qǐng)?zhí)杹?lái)看 申請(qǐng)?zhí)柕?位/第5位為1的表示發(fā)明專(zhuān)利，為2則是實(shí)用新型，為3的是外觀設(shè)計(jì)，為8/9的則是pct(PCT是指國(guó)際申請(qǐng)的意思)申請(qǐng)進(jìn)入中國(guó)。

中國(guó)芯片最大痛點(diǎn)：光刻機(jī)為啥這么難？

光刻機(jī)應(yīng)該不是中國(guó)芯片的最大痛點(diǎn)。分明是含有美國(guó)技術(shù)的代工嘛。據(jù)報(bào)道，國(guó)內(nèi)現(xiàn)有代工廠無(wú)一不是這樣，都不能讓華為芯片設(shè)計(jì)在自己那里變?yōu)楫a(chǎn)品。

自主研發(fā)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)分明有啊。上海微電子早就可以實(shí)現(xiàn)90nm光刻機(jī)的生產(chǎn)。倒是像軍民用飛機(jī)的航空發(fā)動(dòng)機(jī)一樣，光刻機(jī)雖然有，我國(guó)是世界上極少數(shù)擁有的國(guó)家之一，已經(jīng)了不起，卻與全球頂級(jí)有著很大的差距，痛是痛著，但不是最大的痛，因?yàn)椴幌駠?guó)內(nèi)代工廠們，自己不僅為技術(shù)水平是低端的而痛著，更由于被美國(guó)管制得死死的即“形有卻實(shí)無(wú)”而痛著，還讓本是芯片設(shè)計(jì)技術(shù)為世界先進(jìn)的同一國(guó)兄弟企業(yè)為孤立無(wú)援而心痛著。

據(jù)報(bào)道上海微電子將在2021或2022年推出28nm光刻機(jī)。也有人說(shuō)不叫28nm光刻機(jī)，而是193nm浸入式光刻機(jī)，193nm是光源波長(zhǎng)，極限工藝是7nm。反正將是又進(jìn)一步，并且，荷蘭ASML是集全世界之力搞出全球頂級(jí)的，我國(guó)則是在被封鎖相關(guān)技術(shù)的情況下單獨(dú)搞出來(lái)的，而擁有了低端的就會(huì)擁有高端的，最重要的是走上了自主研發(fā)的道路，這分外珍貴，也大有前途。

國(guó)產(chǎn)頂級(jí)光刻機(jī)制造的最大難點(diǎn)在于國(guó)內(nèi)還制造不出頂級(jí)零件。頂級(jí)光刻機(jī)必須通過(guò)整合那些相關(guān)頂級(jí)技術(shù)和零件才能實(shí)現(xiàn)是已知的，這是ASML的既有模式和成功經(jīng)驗(yàn)。整合應(yīng)該是相對(duì)容易的，然而，我國(guó)的鏡頭、光源、材料等等配套企業(yè)在技術(shù)水平上卻還不是世界頂級(jí)的，這是光刻機(jī)這個(gè)痛點(diǎn)持續(xù)存在的根本因素。

一國(guó)單獨(dú)造出頂級(jí)光刻機(jī)還沒(méi)有先例。世界頂級(jí)的光刻機(jī)技術(shù)和零件配套企業(yè)都是誰(shuí)是已知的，卻又知道不會(huì)給我國(guó)提供配套，我國(guó)只能單打獨(dú)斗，這也就表明我國(guó)注定是發(fā)展慢于ASML的，盡管技術(shù)都是什么、復(fù)雜在哪里也是已知的，國(guó)內(nèi)配套企業(yè)就是難以很快提升技術(shù)水平，同時(shí)，顯然表明達(dá)到高端只是個(gè)時(shí)間問(wèn)題，這符合科技研發(fā)的普遍規(guī)律。這一切都跟我國(guó)的航空發(fā)動(dòng)機(jī)特別像。早就聽(tīng)說(shuō)ASML講過(guò)即使我國(guó)企業(yè)拿到圖紙也造不出頂級(jí)光刻機(jī)，此話(huà)肯定太離譜了，我國(guó)的上海微電子及其配套企業(yè)一定會(huì)堵住ASML的嘴。

已有的光刻機(jī)特別是將有的技術(shù)更進(jìn)一步光刻機(jī)應(yīng)該就能讓華為擺脫美國(guó)切斷國(guó)內(nèi)外代工渠道所致的困境。如果連中芯國(guó)際都代工不上華為芯片，華為大不了自己購(gòu)買(mǎi)和使用上海微電子最新推出的光刻機(jī)，實(shí)現(xiàn)自己設(shè)計(jì)、自己制造，雖然只能暫時(shí)生產(chǎn)出中低端芯片，卻也是有路可走，立馬打破了美國(guó)政府的阻遏。

回答完畢，感謝題主！

芯片和光刻機(jī)，痛點(diǎn)和難，幾個(gè)關(guān)鍵詞組成的一個(gè)問(wèn)題，充分說(shuō)明了自從美國(guó)宣布制裁中興，到后來(lái)的制裁華為，再到后來(lái)增加的一系列實(shí)體名單，讓芯片國(guó)產(chǎn)化變成了異常熱的一個(gè)話(huà)題，國(guó)產(chǎn)芯片成為中國(guó)人的“芯”坎兒，讓生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)更成為似乎比研制導(dǎo)彈原子彈更難的科學(xué)課題之一。

這個(gè)問(wèn)題，還讓我想起了不久前的一則新聞，雖然后來(lái)證實(shí)這是個(gè)假新聞——

謠言：中科院已設(shè)計(jì)出2納米芯片在2020年2~4月間，不斷有網(wǎng)傳新聞稱(chēng)中科院以設(shè)計(jì)出2納米芯片，甚至更有媒體誤傳成中科院以生產(chǎn)處2納米芯片。

事實(shí)的真相是中科院的科學(xué)家們實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)2納米芯片的關(guān)鍵技術(shù)突破——成功研發(fā)出了生產(chǎn)2nm及以下芯片工藝所需要的新型晶體管——疊層垂直納米環(huán)柵晶體管。

那么，這個(gè)疊層垂直納米環(huán)柵晶體管和2納米及一下機(jī)芯片有啥關(guān)系呢？

對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)來(lái)說(shuō)，芯片是有一個(gè)個(gè)晶體管組成的，或者說(shuō)晶體管是芯片的一個(gè)單元元器件。

但是，這些晶體管不是簡(jiǎn)單地堆積羅列在一起。

至于我們常說(shuō)的7nm、5nm、2nm的芯片是指晶體管與晶體管之間的距離為7nm、5nm、2nm，晶體管之間能在頭發(fā)絲的千分之一、萬(wàn)分之一的距離上實(shí)現(xiàn)幾十億晶體管“部署”，并保證良品率，可見(jiàn)難度極大。

一般來(lái)說(shuō)，芯片制造分為前段設(shè)計(jì)和后端制造，題主這個(gè)問(wèn)題的提出，正是暴露出了中國(guó)芯片制造的問(wèn)題要比芯片設(shè)計(jì)的問(wèn)題更多。

在回答問(wèn)題之前把中科院的這個(gè)疊層垂直納米環(huán)柵晶體管問(wèn)題，是想說(shuō)其實(shí)中國(guó)在芯片設(shè)計(jì)上，問(wèn)題并不像光刻機(jī)那樣顯得那么難。

因?yàn)椤?/p>

中國(guó)芯片看制造，芯片制造看光刻目前，紫光展銳、華為、中興通訊都實(shí)現(xiàn)了7納米芯片的設(shè)計(jì)，但依然需要與三星或臺(tái)積電合作。

譬如，來(lái)自中芯國(guó)際的新聞就說(shuō)，中芯國(guó)際已經(jīng)繞過(guò)蘭ASML公司光刻機(jī)的專(zhuān)利，并能成功制造出7納米芯片，在今年年底即將量產(chǎn)。

而且，有一些芯片中國(guó)還不能獨(dú)立設(shè)計(jì)出來(lái)，或者設(shè)計(jì)出來(lái)在性能上不如外國(guó)的。

芯片設(shè)計(jì)屬于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生態(tài)中極為重要的一環(huán)，同等重要。

盡管7納米芯片與外國(guó)企業(yè)合作設(shè)計(jì)出來(lái)了，但是如果要國(guó)產(chǎn)化，中國(guó)企業(yè)卻造不出來(lái)，為什么？

因?yàn)橹袊?guó)沒(méi)有能夠制造7納米芯片的設(shè)備——7納米芯片光刻機(jī)。

相信會(huì)有人說(shuō)那，中國(guó)現(xiàn)在技術(shù)已經(jīng)比較發(fā)達(dá)，造一臺(tái)7納米芯片光刻機(jī)不就行了嗎？像制造殲20一樣。

對(duì)不起，中國(guó)造不出來(lái)。

為什么？

中國(guó)不缺乏光刻機(jī)，缺乏的是高端光刻機(jī)好，說(shuō)到光刻機(jī)，我們先說(shuō)下，這個(gè)光刻機(jī)是做什么的？

光刻機(jī)，是把電子元器件，也就是剛才說(shuō)到的晶體管，幾納米幾納米的晶體管，幾個(gè)億或幾十個(gè)億的電子元器件刻出來(lái)，這是最關(guān)鍵的一道工序。

目前只有荷蘭ASML能生產(chǎn)的光刻機(jī)也在5納米制程上。

像文首假新聞稱(chēng)的中科院能夠制造出2納米的芯片，目前在全球，還未能有一家企業(yè)或國(guó)家能做出來(lái)。

既然說(shuō)到荷蘭的ASML公司，在半導(dǎo)體行業(yè)或芯片制造光科技上很先進(jìn)，到底有多先進(jìn)呢？

我們必須回顧下荷蘭的ASML公司歷史。

荷蘭的ASML公司，并不是荷蘭這個(gè)國(guó)家的公司，而是集全球半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)計(jì)、制造和材料行業(yè)所有產(chǎn)業(yè)鏈最前沿最高端最先進(jìn)的公司作為股東成了的一家公司，為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)。

TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型，像英特爾、三星、海力士、臺(tái)積電、中芯國(guó)際等。

而且，全球只有ASML有能力生產(chǎn)能力制造和出貨EUV光刻機(jī)，尼康的最高技術(shù)水平還停留在ArF氟化氬沉浸式光刻機(jī)。

EUV光刻機(jī)一臺(tái)可以銷(xiāo)售1.5億美元左右，而沉浸式光刻機(jī)一臺(tái)才幾千萬(wàn)美元，相差一大截子。

問(wèn)題是，其他企業(yè)像ASML都買(mǎi)到了，單單中國(guó)的中芯國(guó)際遭到了拒絕。

2018年，中芯國(guó)際曾向荷蘭ASML公司訂購(gòu)兩臺(tái)光刻機(jī)，可直至今日，這兩臺(tái)光刻機(jī)依然不見(jiàn)蹤影，其給出的理由是未能取得荷蘭政府的同意，什么未能取得荷蘭政府的同意，大家都能明白，其眾所周知的原因肯定是背后的美國(guó)。

就像當(dāng)年中國(guó)要與歐洲共同打造伽利略導(dǎo)航系統(tǒng)一樣，但結(jié)果確實(shí)中國(guó)只能支付巨資使用，卻不能參與技術(shù)，也和當(dāng)年以色列售賣(mài)給中國(guó)無(wú)人機(jī)一樣，最后的結(jié)果都是未能交付。

光刻機(jī)：人類(lèi)工業(yè)皇冠上的明珠有人這樣形容光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)——人類(lèi)工業(yè)皇冠上的明珠。

這不是沒(méi)有道理的，因?yàn)椤?/p>

光刻機(jī)是一種集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機(jī)械、自動(dòng)化、軟件、圖像識(shí)別領(lǐng)域頂尖技術(shù)的產(chǎn)物。

一輛汽車(chē)的零件，約有20000個(gè)。而一臺(tái)光刻機(jī)呢，據(jù)說(shuō)有10w個(gè)零件。

光零件多還不算，更為關(guān)鍵的是，它集合了全球最高端做前沿的材料技術(shù)。

拿最先進(jìn)的ASML極紫外光EUV光刻機(jī)為例，在這臺(tái)尖端光刻機(jī)上會(huì)看到全世界各國(guó)頂尖技術(shù)的薈萃：德國(guó)提供蔡司鏡頭技術(shù)設(shè)備，日本提供特殊復(fù)合材料，瑞典的工業(yè)精密機(jī)床技術(shù)，美國(guó)提供控制軟件、電源等等等等。

問(wèn)題是，提供這些設(shè)備啊、材料啊、機(jī)床啊、軟件啊的公司，幾乎都是ASML的股東，簡(jiǎn)單說(shuō)，ASML的股東是光刻機(jī)制造業(yè)相關(guān)配套技術(shù)和設(shè)備供應(yīng)的最高境界。

簡(jiǎn)單說(shuō)，EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)是全球技術(shù)合作的產(chǎn)物，世界上任何一個(gè)國(guó)家都不具備單獨(dú)生產(chǎn)這種光刻機(jī)的技術(shù)和能力。

看到這里，相信都理解了為什么美國(guó)要限制中國(guó)使用光刻機(jī)和芯片技術(shù)，美國(guó)是用全球合作的最高端技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)中國(guó)的封鎖。

所以生產(chǎn)7nm、5nm芯片的光刻機(jī)，目前中國(guó)確實(shí)制造不出來(lái)，也不具備這樣的能力。

中國(guó)為什么造不出7納米芯片的光刻機(jī)這個(gè)問(wèn)題，我想用兩個(gè)圖表來(lái)說(shuō)明——

上圖是2019年全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈價(jià)值分布概覽。設(shè)備制造（光刻機(jī)光刻膠等）中國(guó)大陸的份額只有2%，其他地區(qū)中包括歐洲，日本，韓國(guó)，中國(guó)臺(tái)灣占到了51%，美國(guó)占到47%。

我們?cè)賮?lái)看設(shè)備制造中具體有哪些公司。

中國(guó)只有中微半導(dǎo)體和北方華創(chuàng)還算可以，但這兩家公司不是造光刻機(jī)的。

荷蘭在半導(dǎo)體設(shè)備制造方面是真的強(qiáng)，ASML吃掉了全世界光刻機(jī)市場(chǎng)的95%，佳能和尼康一般也不外賣(mài)。

中國(guó)光刻機(jī)，目前的最先進(jìn)水平，應(yīng)該是上海微電子的能制造28nm制程芯片的duv光刻機(jī)，有潛力做到7nm制程，但需要其他領(lǐng)域的配合。

至于說(shuō)到其他領(lǐng)域的配合，偏偏，在光刻機(jī)領(lǐng)域上，中國(guó)存在著諸多領(lǐng)域的短板。

ASML的成功是全球頂尖產(chǎn)業(yè)鏈的幾盒融合。

佳能，尼康做了相機(jī)那么久，最后都退出EUV的研發(fā)，國(guó)內(nèi)光學(xué)基礎(chǔ)本來(lái)就不好，在激光器，鏡頭方面跟國(guó)外差距還很大，短時(shí)間內(nèi)很難追上。

光刻機(jī)，其零件基本都是精密度很高的，通常只有歐美日的老牌企業(yè)才能制造出來(lái)，賣(mài)給我們。

現(xiàn)在的問(wèn)題是，即使中國(guó)設(shè)計(jì)出高端光刻機(jī)，制造光刻機(jī)的精密零件也得不到。

那就研制這些高精密度的零件吧，相信三年不行五年，五年不行十年，總能調(diào)試出來(lái)的。

雖然出來(lái)了仍然會(huì)落后，但由于摩爾定律的限制，總有一天會(huì)追上國(guó)際先進(jìn)水平的。

到達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平的時(shí)候，也許總研發(fā)資金千億以上了，考慮到時(shí)間成本，上萬(wàn)億也可能。

就說(shuō)中國(guó)的北斗系統(tǒng)，不也是經(jīng)過(guò)十幾年三代科學(xué)家才搞成功的么？

北斗投入要多大？

再說(shuō)，在衛(wèi)星和航天領(lǐng)域，中國(guó)本就比較先進(jìn)。

但在孤傲高科技領(lǐng)域不是。

話(huà)再說(shuō)回來(lái)，即使高端光刻機(jī)研制出來(lái)，市場(chǎng)也小啊，只能銷(xiāo)售給有限的幾個(gè)企業(yè)。

為什么全球國(guó)家聯(lián)合起來(lái)組建一個(gè)荷蘭的ASML公司，也許也是因?yàn)楫a(chǎn)值、市場(chǎng)不大的原因，否則基于美國(guó)、日本的技術(shù)，不會(huì)不傾一國(guó)之力搞出來(lái)。

好了，終于花費(fèi)巨資研究、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)，搞出來(lái)了，但一年的需要量，可能就幾十億的產(chǎn)值。

完全自主研發(fā)高端光刻機(jī)，必然是個(gè)巨虧的生意。

再說(shuō)，中國(guó)制造的光刻機(jī)，還面臨著諸多專(zhuān)利技術(shù)的限制。

相信依靠我們自己總有一天，能制造出來(lái)自己的光刻機(jī)，但任重道遠(yuǎn)。

最后感謝題主。